AI招聘外包出海唐格
2024 年 4 月，英特尔在俄勒冈州希尔斯伯勒（Hillsboro）Fab D1X 洁净室完成高数值孔径极紫外（High NA EUV）光刻设备安装并开始校准。这台重 165 吨的 High NA EUV 设备由 ASML 制造，是全球首台商用同类光刻系统。该设备将帮助英特尔晶圆代工（Intel Foundry）继续推进摩尔定律，为客户制造晶体管更小、性能更强的芯片。（图片来源：英特尔公司）当地时间 7 月 15 日，ASML官方发布重磅公告，英特尔晶圆代工业务实现行业里程碑：依托 ASML High NA EUV（高数值孔径EUV） 光刻设备，英特尔 18A 工艺已用于批量生产第三代酷睿 Ultra（代号 Panther Lake）处理器，成为全球第一家使用 High NA EUV 设备量产出货逻辑芯片的厂商。这批酷睿 Ultra 3 处理器基于英特尔 18A 工艺打造，芯片关键金属层均采用 High NA EUV 完成图形化制程。大批量流片生产过程中产出的海量工艺数据，将助力 ASML 与英特尔持续优化设备稼动率、迭代工艺配方，为全行业大规模落地 High NA EUV 打下坚实基础，充分释放
发布于 北京
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