shane
精益生产
🟢 Litho机台仿真：从Wafer级建模到动态WPH对标用FlexSim构建光刻机台仿真模型，将Scanner与Track拆分为多个子工艺，每个绿Token代表一片Wafer，标记唯一ID。通过资源占用设置，确保每步仅加工一片，前步释放后步才启动。📊 输出成果Token流动与堆积可视化，瓶颈子工艺一目了然按Wafer ID追踪加工时间，计算Actual WPH取25片加工时间分位数，推算Peak WPH建立WPH Ratio标准值与目标值，用于效率对标⚠️ 当前局限每子工艺仅设为单资源（实际机台为多工艺室并行），且来料FOUP（WIP流动）尚未纳入模型。🚀 改进方向引入多子工艺并行，计算腔室配比，确保Scanner曝光为瓶颈用历史WIP数据拟合离散概率分布，模拟真实WIP → 对应Actual WPH输入MPS预测WIP，对应Peak WPH，动态观察负荷变化如果您也在Fab产能建模、仿真优化或IE效率提升方面有需求，欢迎私信交流，开放咨询合作。#半导体 #IE #产能规划 #WPH #仿真 #光刻
发布于 四川
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