曾浩明
Potential improvement or even evolution of EUV exposure machine…根據綠色和平組織的估計，全球晶片產業的用電量將在2030年增至2,370億度，是2021年的兩倍，這個數字已接近整個澳洲的用電總量。綠色和平組織也預估，全球最大晶片製造商台積電在同期間的用電量將增至三倍。對台灣來說，這個預測令人憂心，因為晶片產業已對當地的基礎設施造成沉重的負擔。台積電消耗了全台逾6％的電力，某些地區甚至用掉10％的可用水資源來冷卻設備。镭射系统供应商創浦已經著手處理這個問題，從設計一個新的冷卻系統開始，讓雷射系統冷卻到適合家庭再利用的度。對曾經是區域供熱系統專家的布令克來說，這已經成為他個人的使命。一個新目標已浮現在眼前：善用EUV光產生的廢熱。未來也有可能出現新的 EUV 技術。例如，自由電子雷射（FEL）具備提升光源效率的潛力。早在 2014 年，ASML 就曾評估使用電子加速器來取代錫滴雷射電漿光源的可能性。布令克當時認為FEL 在短期內並不可行，因為這種大型且複雜的光源系統會佔據整棟建築，還要提供足夠電力來驅動多個系統。他不喜歡這種單點故障的風險：只要光源出問題，整座晶圓廠就可能停擺。因此他決定終止FEL 的研究：「只要我不需要它，我就不會用它。」
发布于 北京
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